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EMG位移传感器EVM 2-CP/1000.71/L/R

发表时间:2019-12-17 15:37 作者:胤旭机电 来源:www.crkft.com 浏览:

胤旭机电 >> EMG位移传感器EVM 2-CP/1000.71/L/R : EMG位移传感器EVM 2-CP/1000.71/L/R 带钢边缘和中心定位装置EVK / EVM 光学带材边缘和带材中心导向系统 EVK边缘传感器定位设备和EVM中心传感器定位设备用于钢带的非接触式带材边缘和带材中……


  EMG位移传感器EVM 2-CP/1000.71/L/R

  带钢边缘和中心定位装置EVK / EVM

  光学带材边缘和带材中心导向系统

  EVK边缘传感器定位设备和EVM中心传感器定位设备用于钢带的非接触式带材边缘和带材中心检测。该设备高度可靠且不受外部干扰的影响,可通过视觉检测带材边缘和/或中心位置的变化。

  带边缘通过电动移动传感器定位设备检测,该设备配备了高频(HF)交流测光接收器LS 13/14,可以防止环境光。如果由于条带宽度的变化或横向条带偏移而导致条带边缘发生位移,则这将由光电管检测到。

  然后,上级控制电子设备激活直流电动机以移动LS 13/14 和控制电路的执行器(伺服 或电动伺服油缸),以确保带材边缘始终覆盖光电管测量范围的一半。

EMG位移传感器EVM 2-CP/1000.71/L/R

  通过使用参考测量原理可以补偿发光器的污染。这涉及使用测量接收器和参考接收器的每个测量系统,该测量接收器和参考接收器指向发光器的相同光斑。当测量光电管检测到带材边缘的横向位置时,参考光电管测量光斑的背景亮度。

  精确可靠的测量精度,因为该系统对带材高度的波动不敏感

  传感器和光源之间的距离长达4 m

  高可靠性和易于操作

  快速且简单的安装(最小的安装空间),调试时间短

  借助参考测量原理进行主动污垢补偿

  也适用于恶劣环境(例如酸洗线,冷轧机等)

快三投注   通过使用HF交替光来防止环境光

  以下组件属于光学条边缘和中心引导系统:

  LLS线性光发射器

  交流测光接收器LS

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